本装置是一套为激光烧蚀系统（Laser Ablation System）而设计的基础配置，考虑到激光沉积技术应用日益广泛的趋势，强调小型、轻量、易于操作，满足多样化需求。
装置包含了靶材机构和激光光学平台。

• 虽为小型、低成本设备，但具备出色的扩展性，可加装溅射源、分子束外延（MBE）源等模块。

• 采用大尺寸、专用设计的激光窗口，具备出色的抗污染能力，且易于更换。

• 腔体容量小，实现了短时间抽气即可进行成膜，大幅提高效率。

• 配备可容纳4个靶材的自转/公转机构，可进行多种材料的复合成膜。

• 通过序列控制器（PLC）进行配方式自动控制，实现自动化成膜流程。

• 激光光学平台设计紧凑，占用空间小，适合于实验室及有限空间内的安装。