ヒーティングシステムの紹介
半導体製造装置業の排気配管内に堆積する副生成物(パウダー)を、熱技術を応用した希釈・加熱によりこれら副生成物の堆積を防ぎ、抑制します。
これにより
- 装置配管内の清浄さを維持
- メンテナンス費用の削減および作業の軽減
- 爆発等の危険を防止し安全な環境を維持
- 熱エネルギーの活性化により、生産性の向上 等が実現されます。
弊社では各ライン向けにDepoの堆積抑制・除去をはじめとした機器ならびにシステムを製品別に以下、ご提案いたします。
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