HOT-N2 SYSTEMについて
HOT-N2 System
HOT-N2 SYSTEM は、半導体製造においてパウダーやガス副生成物が発生する工程に使用し、Exhaust Line (排気管) の詰まりを改善します。
【特徴】
【特徴】
- パウダー・副生成物の生成および堆積防止:
配管内酸化物生成を抑制します。 - メンテナンス減による設備の生産性向上：
メンテナンス費用減少が期待されます。 - 大容量N2 Purge が可能：
爆発危険性を防止します。
使用例および機能
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ドライポンプのOUT側およびScrubber (除外装置) のIn-let 側に取り付けます。
【機能】
- Dilution (希釈)：
ガスをDilution (希釈) します。 - Transfer (移送)：
HOT N2 を配管内部に噴射し、副生成物を高速で流し込むことで副生成物がTransfer (移送) され配管内部の蓄積を防止します。 - 熱エネルギー活性化：HOT N2を噴射により副生成物を加熱させます。
HOT N2 SYSTEM 主な適用工程
HOT N2 SYSTEM 使用例
- エッチング
- CVD
- PVD
- Diffusion 等
※一部の低温工程では HOT N2 SYSTEM を使用する必要はございません
HOT N2使用による効果
HOT N2 未使用
HOT N2 使用
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TEL.
03-3456-2577