単元スパッタ装置

小型単元スパッタ装置　　　　　　　(画像をクリックすると拡大できます)

本装置は小型で容易な操作ながら、高品質のスパッタ薄膜が得られるコストパフォーマンスに優れた装置です。
また豊富なオプションにより金属、半導体、絶縁物や磁性体等幅広い材料の薄膜が得られます。

【特徴】

2"マグネトロンスパッタガン　　　　(画像をクリックすると拡大できます)

本製品は磁石にネオジマグネットを用い、すべて溶接・ろう付け構造となっているため超高真空での対応が可能なスパッタガンです。

［特徴］

1. 磁石にネオジマグネットを用い、磁場強度を強くしているので
　磁性体ターゲットにも対応可能です。

2. マグネットは特殊処理され真空中に配置しており、冷却水に
　よる劣化がありません。
3. すべての部品及び接続部を溶接・ろう付けしておりベーキング
150℃ が可能で超高真空での対応が可能です。

詳細はこちらよりご参照ください。

構成	主な仕様
チャンバーおよび排気系	チャンバー：φ200x400　SUS304 メインポンプ：700 L /s ターボ分子ポンプ到達真空：5x10^-5Pa ゲージ：ピラニゲージおよびペニングゲージポート：排気ポート　　　スパッタガン 1基 (1"スパッタガンの場合3基) 基板交換用ハッチ操作：手動
スパッタ源	2”スパッタガン　300W DC電源 (パワー設定可能) 　　または　マッチングボックス付 300W RF電源
基板ステージ	収納基板：最大φ2" 300℃ または 800℃加熱機構 (オプション)
ガス導入機構	10SCCMマスフローコントローラー

上記装置仕様は一例です。
ご希望に応じたカスタマイズが可能です。

例：チャンバーサイズの変更

　　メインポンプの変更

　　ポート数の変更

　　ゲージの変更　　　　

　　操作方法の変更　　　　等

TEL. 03-3456-2577