PLD (Pulse Laser Deposition) 装置について

PLD装置　　　　　　　　　　　　(画像をクリックすると拡大できます)

本装置は、応用が拡大しているレーザーアブレーションシステムにおいて小型かつ軽量、取り扱いが容易で広いニーズに対応することを念頭に置いて設計された基本セットです。

ターゲット機構、レーザー光架台が含まれております。

【特徴】

• 小型・安価ながら拡張性に優れ、スパッタ、分子線セル等を付加することができます。
• 大型で特殊なレーザー窓を採用し、汚染に強く交換が可能です。
• チャンバー容量を小さくし、短時間の排気で成膜が可能となりました。
• 4個収納のターゲット自公転機構が搭載され、複数の材料成膜が可能です。
• シーケンサーレシピ制御により自動成膜が可能です。
• コンパクトなレーザー光学架台により、小スペースで設置が可能です。